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| 真空離子鍍膜原理 |
| 發(fā)布時(shí)間：2022-06-07 瀏覽：2799 次 |
真空離子鍍膜是指在真空氣氛中利用蒸發(fā)源或濺射靶使膜材蒸發(fā)或濺射，蒸發(fā)或濺射出來(lái)的一部分粒子在氣體放電空間中電離成金屬離子，這些粒子在電場(chǎng)作用下沉積到基體上生成薄膜的一種過(guò)程 。 其原理如圖3所示 。首先將鍍膜室壓力抽真空至 10 -3pa 以下，然后通入工作氣體使壓力增大至 10^0-10^-1pa，接入高壓。由于作為陰極的蒸發(fā)源接地，基體接入可調節的負偏壓，這時(shí)電源即可在蒸發(fā)源與基體間建立起低壓氣體放電的低溫等離子區;電阻加熱式蒸發(fā)源通電加熱膜材后，從膜材表面上逸出來(lái)的中性原子，在向基體遷移的過(guò)程中通過(guò)等離子體時(shí)，一部分原子由于與電子碰撞而電離成正離子;另一部分與工作氣體中的離子碰撞交換電荷后也可生成離子。這些離子在電場(chǎng)作用下被加速而射向接入負電位的基體后，即可生成薄膜。
3.2 真空離子鍍膜的特點(diǎn) ?、?膜 /基結合力(附著(zhù)力)強，膜層不易脫落; ② 離子鍍具有良好的繞射性，從而改善了膜層的覆蓋性;③ 鍍層質(zhì)量高;④ 沉積速率高，成膜速度快，可制備30微米的厚膜;⑤ 鍍膜所適用的基體材料與膜材均比較廣泛。 本文由真空鍍膜機廠(chǎng)家愛(ài)加真空收集整理，僅供學(xué)習和參考! |
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