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　　展覽時(shí)間：2020年10月10-12日

　　展覽地點(diǎn)：上海光大會(huì )展中心(上海市漕寶路88號)

　　同期活動(dòng)：同期召開(kāi)多場(chǎng)技術(shù)研討會(huì )及活動(dòng)吸引用戶(hù)及本行業(yè)人士蒞臨交流;

　　參展范圍：

　　靶材：濺射靶材、金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、合金靶材、單晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、貴金屬靶材、稀有金屬靶材(鈦、鈮、鋯、鎳、鉭、鎢、鉬、鉿、鉻、銀等)，單一金屬靶材、蒸發(fā)材料、特種靶材等各類(lèi)靶材;

　　鍍膜材料：金屬膜料、氧化物、氟化物、硫化物、鈦酸物、混合物等各種膜材、鍍膜蒸發(fā)料;PVD涂層、TiN涂層、TiC涂層、TiCN涂層、ZrN涂層、CrN涂層、MoS2涂層、TiAlN涂層、TiAlCN涂層、TiN-AlN涂層、CNx涂層、DLC涂層、ta-C涂層等多元復合涂層;

　　低溫超導薄膜：低熔點(diǎn)超導薄膜：低熔點(diǎn)超導薄膜，合金薄膜;高熔點(diǎn)超導薄膜：難熔金屬，合金薄膜;化合物超導薄膜： NbN和Nb3Sn、Nb3Ge薄膜;高溫超導薄膜;釔系薄膜、鉍系薄膜和鉈系薄膜;

　　功能薄膜：光學(xué)薄膜，背光/顯示用膜，顯示屏用膜，產(chǎn)業(yè)用薄膜，光伏薄膜;

　　鍍膜設備：真空鍍膜機、真空蒸鍍設備、光學(xué)鍍膜機、濺射鍍膜機、眼鏡鍍膜機、光纖鍍膜、CVD設備、MOCVD設備、薄膜沉積設備、玻璃鍍膜設備、磁控鍍膜、蒸鍍設備、離子束沉積設備、電子槍、離子源;蒸發(fā)沉積掩膜、晶振片、鍍膜夾具、配件、儀器、鍍膜測試與監控設備、膜厚監測儀、鍍膜牢固度測試器等;

　　鍍膜材料生產(chǎn)加工設備：冷等靜壓機，熱等靜壓機，磁控濺射熱蒸發(fā)，銅帶銅銦硫技術(shù)與設備，高溫釬焊爐，燒結爐，中頻感應爐，電子束區熔爐，電子束熔煉爐，大面靶材釬焊爐，高溫真空熱壓爐，軋機等;

　　超導器件：超導隧道器件，超導量子干涉器件，

　　薄膜成型機械、檢測檢驗儀器、特殊裝置、薄膜原料及化工產(chǎn)品;

　　潔凈工程：潔凈、防護系統，屏蔽防護產(chǎn)品、屏蔽機房設備、屏蔽桌/臺/柜，安全防護服、潔凈室耗材、防靜電產(chǎn)品等;

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