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低溫泵在超高真空爐中的應用實(shí)例
發(fā)布時(shí)間:2017-09-27 瀏覽:4122 次

  十多年前開(kāi)始在真空電子技術(shù)相關(guān)工藝設備中應用低溫泵、干泵無(wú)油系統來(lái)獲得超高真空,效果滿(mǎn)意。這次嘗試將低溫泵快速、潔凈和可靠的獨特優(yōu)勢應用到真空爐中。

  將低溫泵并入真空系統中,達到清潔的超高真空環(huán)境。本文以實(shí)例介紹了低溫泵在超高真空爐中的應用; 重點(diǎn)介紹了低溫泵真空系統的設計思路,真空系統的主要配置和注意事項,低溫泵的選型計算,并用圖示方法詳細介紹了低溫泵系統的安裝、使用和維護等環(huán)節。

  對同類(lèi)真空爐的研發(fā)和低溫泵的應用都有參考價(jià)值。通過(guò)嚴格把關(guān)各研發(fā)環(huán)節,按照超高真空規范進(jìn)行清洗,除氣和烘烤,最后真空爐的極限壓力達到了2 × 10-7Pa,將常規的真空爐極限壓力延伸了近一個(gè)數量級。

  近年來(lái)無(wú)油真空泵在半導體行業(yè)為代表的領(lǐng)域被引進(jìn)并廣泛應用。從而低溫泵+ 干泵為代表的無(wú)油超高真空獲得系統在半導體電子技術(shù)、光學(xué)鍍膜系統和航空航天領(lǐng)域得到了廣泛推廣。

  通過(guò)低溫介質(zhì)將抽氣面溫度降低到20 K 以下,抽氣面就可以冷凝沸點(diǎn)溫度較低的氣體,從而抽出大量的氣體。這種利用低溫抽氣面將氣體冷凝的抽氣泵叫低溫泵,或冷凝泵。是利用低溫介質(zhì)降低表面溫度后將氣體冷凝、吸附或是冷凝+ 吸附,將被抽空間的壓力降低,而獲得真空或維持真空狀態(tài)的裝置。

  作為完整的抽氣系統,低溫泵由兩部分組成,主體為真空泵體,第二部分為壓縮機?,F在得到廣泛應用的都是制冷機式低溫泵,其核心是低溫制冷機。工作基本流程為:氦氣首先被壓縮到高溫高壓狀態(tài);再通過(guò)熱交換器被冷卻為常溫氦氣;經(jīng)純化后的高純氦氣最后經(jīng)汽缸完成絕熱膨脹,變成低溫氦氣。如此不斷循環(huán),氦氣被不斷降溫,成為制冷介質(zhì)—低溫氦氣。

  選擇低溫泵的優(yōu)勢有:

 ?、贊崈?,純無(wú)油,抽氣范圍寬,可快速獲得理想的超高真空環(huán)境;

 ?、谂c口徑相同的其它真空泵相比,低溫泵有更大的抽速,尤其抽出水蒸汽的能力;

 ?、蹖Ρ怀闅怏w無(wú)選擇,雜質(zhì)顆粒而不影響系統工作;

 ?、芸梢匀我饨嵌劝惭b,沒(méi)有運動(dòng)部件,不需要前級泵,運行和維護成本低;

 ?、荼┞洞髿鈱ο到y影響小,壓縮機斷水后可以自保護,所以可以實(shí)現無(wú)人值守。

  真空系統的設計

  真空爐選用低溫泵系統,最大的問(wèn)題就是解決熱負載。真空爐中的熱負載主要來(lái)自于三方面:

 ?、賮?lái)自爐體側的熱輻射;

 ?、谡硿鳡顟B(tài)下,氣體分子攜帶走熱量;

 ?、蹃?lái)自泵口管道的熱傳導和輻射熱量。

  低溫泵工作在分子流狀態(tài)下,熱源②可忽略。熱源③可以通過(guò)增加水冷結構消除。設計時(shí)主要考慮來(lái)自爐體的熱負載對低溫泵的影響。真空爐內選擇多層金屬反射屏。真空爐最高加熱溫度為1300℃,共設計6 層反射屏,內3 層選鉬屏,其余各層選不銹鋼反射屏。理論上加熱器通過(guò)輻射到達容器壁的溫度約200℃,溫度隨著(zhù)時(shí)間會(huì )慢慢升高。

  多數情形,低溫泵可裝個(gè)90°彎頭,以避免與真空室直通,這就進(jìn)一步減少了傳給泵的熱負載,這也是減少熱輻射最簡(jiǎn)單有效的方法。在分子流狀態(tài)下,彎頭對流導的影響可忽略,對超高真空系統而言比擋板更有效。為了進(jìn)一步減少泵口管道熱傳導熱和輻射對低溫泵的影響,在彎頭管道上設計了水冷結構。真空系統結構圖如圖1。

低溫泵在超高真空爐中的應用實(shí)例

  圖1 真空系統結構圖

  為了獲得理想的超高真空,同時(shí)運用冗余技術(shù),我們設計了分子泵機組和低溫泵并聯(lián)的真空系統。分子泵機組可以作為系統的預抽,這樣當低溫泵降溫后可以直接在分子流狀態(tài)下工作。

  另外當真空室放氣量比較大時(shí),可以及時(shí)切換到分子泵抽氣,這樣既可以延長(cháng)低溫泵的抽氣飽和時(shí)間,也可以節約再生時(shí)間。分子泵、低溫泵都通過(guò)氣動(dòng)超高真空閘板閥和真空室連接。

  為保證系統潔凈無(wú)油,同時(shí)最大程度發(fā)揮低溫泵的抽氣優(yōu)勢,選擇了純無(wú)油磁懸浮分子泵,前級泵選擇了渦旋式干泵,低溫泵再生時(shí)也用干泵抽氣。真空系統原理圖如圖2 真空系統主要配置。

低溫泵在超高真空爐中的應用實(shí)例

  圖2 真空系統原理圖

  當分子泵機組和壓縮機同時(shí)啟動(dòng),大約120 min后低溫泵二級冷頭從室溫降到15 K 以下(可以開(kāi)啟低溫泵閥門(mén)),此時(shí)真空爐系統的真空度可以達到10-5Pa,這樣低溫泵可以直接從高真空開(kāi)始抽氣。

  表1 真空系統主要配置

低溫泵在超高真空爐中的應用實(shí)例

  結論

  本套設備是一套典型的中型真空爐,應用于超高真空條件下的擴散焊工藝,熱容量和表面積都大于同規格的熱處理爐,自動(dòng)化程度較高,配置低溫泵更能發(fā)揮其顯著(zhù)優(yōu)勢。

  真空爐最終測試的極限壓力為2 × 10-7 Pa( 冷態(tài)、空爐) ,壓升率為0.002 Pa /h。指標優(yōu)于常用高真空爐。目前國內低溫泵的應用大多還依賴(lài)進(jìn)口,和相同口徑的其它泵相比,價(jià)格也比較昂貴。

  但在高潔凈工藝環(huán)境、純無(wú)油真空和超高真空領(lǐng)域仍然有很大的優(yōu)勢,并且從使用成本和壽命上比較,低溫泵并不比其它泵差。國內低溫泵的研發(fā)目前還待成熟,尤其是壓縮機技術(shù),期待國內潔凈真空泵行業(yè)的興起。

  本文由真空鍍膜機廠(chǎng)家載自真空技術(shù)網(wǎng)

  
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