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| 真空鍍膜機操作步驟？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-12-16 瀏覽：10507 次 |
1.清洗前，看片子是否短路，是否大小與樣品托合適，蒸鍍時(shí)放樣品托的架子升最高，且旋轉。 2.打開(kāi)電流開(kāi)關(guān)，及時(shí)打開(kāi)ABC舟中一個(gè)，打開(kāi)束源爐，及時(shí)打開(kāi)其中一個(gè)啟動(dòng)A、B等。 3.摻雜材料用量覆蓋舟底即可。 操作步驟： 1、打開(kāi)總開(kāi)關(guān)，包括冷卻水開(kāi)關(guān)和機器開(kāi)關(guān)。 2、打開(kāi)鍍膜機總開(kāi)關(guān)，樣品旋轉開(kāi)關(guān)，升降開(kāi)關(guān)按鈕。 3、將玻璃基板至于樣品托中，導電一面向下。 4、蒸鍍室、預處理室放氣。 5、打開(kāi)蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時(shí)針?lè )较蜿P(guān)，逆時(shí)針?lè )较蜷_(kāi))，推拉桿推至大真空室中，將樣品放到推拉桿上，將推拉桿拉回至預處理中。關(guān)閉閘板閥(順時(shí)關(guān)閉，逆時(shí)針開(kāi)) 6、打開(kāi)快門(mén)控制電源，打開(kāi)快門(mén)一，更換鎢絲(每做一次實(shí)驗更換一次)，將鋁絲掛在鎢絲上(5個(gè)，掛于彎折處)，檢查蒸鍍所需材料。 7、將掩膜版放置于掩膜版架上。 8、打開(kāi)機械A、機械B泵。打開(kāi)四個(gè)真空計，關(guān)閉放氣閥。 9、基片預處理(打開(kāi)角閥)：當處理室真空度達到4.0E1 (4.0×10)Pa 時(shí)關(guān)閉預角閥，打開(kāi)大真空室角閥，再打開(kāi)紫外轟擊電源(直流濺射電源)，調節電流0.025-0.030A。轟擊10-15分鐘(等預處理室與蒸鍍室氣壓平衡，打開(kāi)閘板)。 10、插入樣品托：再次打開(kāi)蒸鍍室與預處理室之間的閘板閥(順時(shí)針?lè )较蜷_(kāi)，逆時(shí)針?lè )较蜿P(guān))，將樣品傳送至蒸鍍室，用機械手抓取樣品托，并保持在機械手上;然后將將推拉桿拉回至預處理中，關(guān)閉閘板閥;降低蒸鍍臺(注意樣品托擋板位置)與機械手平齊，將樣品托輕輕推入蒸鍍臺下方的樣品托導引槽(上方導引槽)。 11、插入掩模板：將樣品升降電源調到手動(dòng)，將蒸鍍臺旋轉180度(用皮帶精確定位)，用升降盒使蒸鍍臺最下方的掩模板導引槽與掩膜版庫軌道，至于同一水平線(xiàn)上，用機械手將掩膜版輕輕推至蒸鍍臺的掩 模板導引槽。 12、當大真空室的壓強為1.2E1的時(shí)候，關(guān)閉角閥，打開(kāi)閘板閥。 13、關(guān)閉機械泵A，升起樣品臺。 14、打開(kāi)分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要兩個(gè)小時(shí))。 15、蒸鍍過(guò)程：打開(kāi)快門(mén)總開(kāi)關(guān)，晶振開(kāi)關(guān)(F1是清零，F5是開(kāi)始或停止)。 16、打開(kāi)PID(束源爐)開(kāi)關(guān)，調節溫度，依次蒸鍍相關(guān)材料，制備OLED器件。 17、關(guān)閉分子泵閥門(mén)，放氣(真空室頂部放氣按鈕)。打開(kāi)真空室，取出樣品。 18、關(guān)閉真空室，待分子泵數字為零時(shí)關(guān)閉分子泵后關(guān)閉機械泵B，打開(kāi)機械泵A的閥門(mén)，打開(kāi)機械泵A抽低真空。如果長(cháng)時(shí)間不用時(shí)一定要關(guān)閉循環(huán)水冰柜電源，以防凍裂。
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