金年会 金字招牌诚信至上,金年会 金字招牌诚信至上,金年会 金字招牌诚信至上,金年会 金字招牌诚信至上

　　電子束蒸發(fā)源是利用熱陰極發(fā)射電子在電場(chǎng)作用下成為高能量密度的電子束直接轟擊到鍍料上。動(dòng)能轉化為熱能，使鍍料加熱汽化，完成蒸發(fā)鍍膜。

　　電子束蒸發(fā)鍍膜機的優(yōu)點(diǎn)：

　　1、電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度，可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到較高的蒸發(fā)速率;

　　2、被蒸發(fā)材料置于水冷銅坩堝內，真空蒸發(fā)鍍膜機可避免坩堝材料污染，可制備高純薄膜;

　　3、電子束蒸發(fā)粒子動(dòng)能大，有利于獲得致密、結合力好的膜層。

　　電子束蒸發(fā)鍍膜機的缺點(diǎn)：

　　1、結構較復雜，設備價(jià)格較貴;

　　2、若蒸發(fā)源附近的蒸氣密度高，電子束流和蒸氣粒子之間會(huì )發(fā)生相互作用，電子的通量將散失和軌道偏移;同時(shí)引起蒸氣和殘余氣體的激發(fā)和電離，會(huì )影響膜層質(zhì)量。

　　本文由真空鍍膜機(http://www.hflgzx.com)廠(chǎng)家收集整理，僅供真空愛(ài)好者學(xué)習交流，本站不具有版權!

推薦閱讀

蒸發(fā)鍍膜與磁控濺射的區別是怎樣的？　

常見(jiàn)的蒸發(fā)鍍膜技術(shù)分析