當前位置：網(wǎng)站首頁(yè) > 技術(shù)中心
技術(shù)中心 Technology
| 蒸發(fā)鍍膜與磁控濺射的區別是怎樣的？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-12-02 瀏覽：7207 次 |
蒸發(fā)鍍膜是加熱靶材使表面組分以原子團或者離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng))形成薄膜。 蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是非常容易保證，具體能調控因素同上，但因為原理有限，對非單一祖分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。 濺射鍍膜能簡(jiǎn)單理解為利用電子或者高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或者離子形式被濺射出來(lái)，且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。 濺射鍍膜又分成許多種，和蒸發(fā)鍍膜的不同之處就是在于濺射速率將成為主要的參數之一。 濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性非常容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對比較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長(cháng)的控制也比較一般。 本文由真空鍍膜機廠(chǎng)家收集整理，僅供真空愛(ài)好者學(xué)習交流，本站不具有版權! 推薦閱讀 |
  |
