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| 真空鍍膜機磁控濺射和電阻蒸發(fā)區別 |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-10-18 瀏覽：5653 次 |
濺射鍍膜就是利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。 濺射鍍膜又分為很多種，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數之一。 濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長(cháng)的控制也比較一般。 電阻蒸發(fā)鍍膜是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng))形成薄膜。 電阻蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。 推薦閱讀 |
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