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| 真空系統冷凍機的作用？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-10-16 瀏覽：4295 次 |
真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會(huì )產(chǎn)生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無(wú)光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會(huì )失去光澤結合力也很差。 早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結合差工效低光澤差。 現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜，解決了過(guò)去自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。 你中頻設備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。 電流在導體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應，電荷會(huì )聚集在電導有表面積，這樣使電導發(fā)熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。 (主要是圓柱靶)為什么也要用水冷卻?磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì )產(chǎn)生高溫會(huì )使射槍變形，所以它有一個(gè)水套來(lái)冷卻射槍。 同時(shí)還有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。 它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。 從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運動(dòng)規律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對稱(chēng)性是磁約束的本質(zhì)原因。 磁控濺射可以被認為是鍍膜技術(shù)中最突出的成就之一。 它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定。 冷水機是一種水冷卻設備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設備。 其工作原理是先向機內水箱注入一定量的水，通過(guò)制冷系統將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達到冷卻的作用。冷卻水溫可根據要求自動(dòng)調節，長(cháng)期使用可節約用水。 冷水機能控制真空鍍膜機的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。 如果不配冷水機就不能使真空鍍膜機達到高精度、高效率控制溫度的目的，因為自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響，而且此方式控制是極不穩定的。 冷水機具有完全獨立的制冷系統，絕不會(huì )受氣溫及環(huán)境的影響，水溫在5℃ ～30℃ 范圍內調節控制，因而可以達到高精度、高效率控制溫度的目的，冷水機設有獨立的水循環(huán)系統電鍍生產(chǎn)中，電鍍液在電鍍反應中不段地產(chǎn)生熱量，從而使電鍍溶液溫度逐漸升高，當電鍍溶液溫度高出工藝的要求時(shí)，對生產(chǎn)出的電鍍制品表面鍍層的牢固度、均勻度、平整度及表面光潔度有著(zhù)較大影響。 而選擇用冷水機(冷凍機)提供的凍在電子組件的生產(chǎn)過(guò)程中需使組件在特定溫度下保持或冷卻，電子組件的性能參數才能控制在設計的狀態(tài)。 水來(lái)冷卻并保持電鍍溶液的恒溫，將對電鍍生產(chǎn)工藝及生產(chǎn)效率有較大提高。 推薦閱讀 |
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