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電子產(chǎn)品濺射鍍膜靶材知識
發(fā)布時(shí)間:2014-10-13 瀏覽:4282 次

  電子產(chǎn)品在各行各業(yè)中都有所應用,而這些電子產(chǎn)品大部分都需要進(jìn)行真空鍍膜后才投入到市場(chǎng)之中,現在常用的真空鍍膜設備是磁控濺射真空鍍膜機,在這里,我們來(lái)講一下在濺射中所使用的靶材的知識。

  一般我們使用的靶材3種類(lèi)型,金屬靶材、合金靶材、化合物靶材。

  硬碟使用的靶材有很多,在記錄面上鍍上多層的薄膜,每層薄膜有各自的功效,在最底層,會(huì )鍍上40nm厚的鉻或者鉻合金,增強結合力和抗腐蝕能力,中間再鍍上15nm厚的鈷鉻合金,再鍍上35nm厚的鈷合金,作為磁性材料,這種材料可以充分體現磁性和低干擾的特性,最后再鍍上15nm厚的碳薄膜。

  磁頭的濺射靶材常用的是鐵鎳合金,后來(lái)又增加了一些新的化合物材料,像氮化鐵、氮化鐵鉭,氮化鐵鋁等,這些都是優(yōu)質(zhì)的磁介質(zhì)膜層靶材。

  CD碟片會(huì )用上鋁膜作為反射層鍍在塑料的工件上,但對于CDROM和DVDROM這些碟片,就不能使用鋁膜了,因為在這些碟片上會(huì )有一層染料層,上面的物質(zhì)對于鋁而言具有一定的腐蝕性,一般會(huì )由金膜或銀膜替代。

  光碟的膜層也是多層組成的,它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層,里面混有非晶態(tài)稀土過(guò)渡元素,再鍍上20到100nm厚的氮化硅介質(zhì)層,最后鍍上鋁膜反射層。

  這些需要落得磁性能,能夠記錄數據的電子產(chǎn)品,要實(shí)現這些功能,還是要靠各種不同物質(zhì)所濺射而成的薄膜,靠其成膜后顯示出來(lái)的晶體狀態(tài)排序來(lái)實(shí)現。

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