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| 真空銀納米顆粒技術(shù)分析 |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-10-09 瀏覽：4319 次 |
制備銀納米粒子的常用方法有物理方法和化學(xué)方法?；瘜W(xué)方法包括溶膠凝膠法、電鍍法、氧化一還原法、靜電噴涂法。利用化學(xué)方法所得到的銀顆粒最小可達幾納米。 實(shí)驗簡(jiǎn)單、方便，但所得銀顆粒不易轉移和組裝，且雜質(zhì)含量較高，容易形成團聚大顆粒。 物理制備方法主要有真空蒸鍍、濺射底和離子鍍。 濺射鍍又包括直流濺射鍍、磁控濺射鍍、射頻濺射鍍、反應濺射鍍和新發(fā)展的微波控制的共濺射鍍等。真空蒸發(fā)方法是發(fā)展最早、應用最廣的銀納米粒子的制備方法，其原理簡(jiǎn)單，操作方便。 通過(guò)控制蒸發(fā)參數可制備幾納米到幾十納米的顆粒，但所得納米粒子定向生長(cháng)性差，納米粒子分散度大，顆粒形狀和粒度分布不均勻。 濺射方法是20世紀40年代開(kāi)始發(fā)展的制備方法，在現代工業(yè)和科學(xué)研究中得到廣泛應用。濺射方法與蒸發(fā)方法一樣，操作簡(jiǎn)單。 特別是1970年出現的磁控濺射技術(shù)，具有高速、低溫兩大特點(diǎn)，通過(guò)對濺射參數的控制，可以制備出幾納米到幾十納米的顆粒，所得納米顆粒尺寸小，定向生長(cháng)性妤，顆粒形狀較整齊，粒度小，較均勻。離子鍍也是一種新型的制備方法，所制備的納米顆粒尺寸小，粒子形狀整齊，粒度也較均勻，但其設備較昂貴。 最新的納米粒子的制備設備是流動(dòng)液面真空蒸鍍裝置，它可制備出0.1nm的團簇粒子，顆粒均勻度很高，是一種非常好的銀納米制備設備，但設備昂貴，不適合運用于工業(yè)生產(chǎn)中。 本文由愛(ài)加真空(http://www.hflgzx.com)收集整理，我公司專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售和維修進(jìn)口真空鍍膜機及polycold維修，歡迎來(lái)電咨詢(xún)! 推薦閱讀 |
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