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| 真空鍍膜機檢漏的目的是什么？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-08-13 瀏覽：4371 次 |
一個(gè)理想的真空鍍膜機，應當是不存在任何漏孔，不產(chǎn)生任何漏氣現象的。但是，對任何真空系統或真空容器來(lái)說(shuō)，絕對不漏的現象是不可能的。 特別是在壓力極低的情況下，隨著(zhù)漏氣現象的影響不斷加劇，真空度達不到預定的工藝要求，是一個(gè)相當普遍的問(wèn)題。 為此，檢測真空鍍膜機或真空容器存在的漏氣部位、確定漏孔的大小、堵塞漏孔從而消除漏氣現，就成為真空技術(shù)工作者的一項重要工作。 所謂漏氣或稱(chēng)實(shí)漏，它是指氣體通過(guò)真空系統上的漏孔或間隙，從高壓側流向低壓側的一種現象。真空檢漏技術(shù)中的一些常用基本概念主要有以下幾點(diǎn)。 (1)虛漏。 是相對于實(shí)漏而言的一種物理現象。這種現象大都是由于材料的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸發(fā)或系統內存在死空間中氣體的流出等原因，而引起真空系統或容器中壓力升高的一種現象。 在真空檢漏作業(yè)時(shí)，需要排除虛漏的影響。 (2)氣密性。 它是表征真空系統或容器的壁對空氣不可滲透程度的一種性能。 (3)漏孔。 是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的孔洞或間隙。大氣通過(guò)這種小孔或間隙進(jìn)入真空系統或容器中。 (4)漏率。即漏氣速率。 它是指單位時(shí)間內通過(guò)漏孔或間隙流到真空系統或容器內的氣體量。 (5)最小可檢漏率。 它是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來(lái)的最小漏率。 (6)檢漏靈敏度。 或稱(chēng)有效靈敏度，即檢漏儀器在最佳工作狀態(tài)下能檢測出的最小漏率。 (7)反應時(shí)間。 又稱(chēng)響應時(shí)間，它是指從檢漏方法開(kāi)始實(shí)施(如開(kāi)始噴射示漏氣體)到指示方法或儀器指示值上升到其最大值的63%時(shí)所需要的時(shí)間。 (8)消除時(shí)間。 它是指從檢漏方法停止(如停止噴吹試漏氣體)到指示方法或儀器指示值下降到停止值的37 %時(shí)所需要的時(shí)間。 9)漏孔堵塞現象。 它是指由塵?；蛞后w所造成的漏孔堵塞，這些堵塞常常是指由于檢漏作業(yè)操作不當而導致發(fā)生的一種暫時(shí)現象，檢漏時(shí)似乎不漏氣，但一經(jīng)排氣又會(huì )出現漏氣的一種現象。 相關(guān)閱讀 |
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