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| 真空蒸發(fā)鍍膜的工作原理？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-07-24 瀏覽：5498 次 |
真空蒸發(fā)鍍膜(簡(jiǎn)稱(chēng)蒸鍍)是PVD技術(shù)中發(fā)展最早，應用較為廣泛的鍍膜技術(shù)。 盡管后來(lái)發(fā)展起來(lái)的濺射鍍和離子鍍在許多方面要比蒸鍍優(yōu)越，但真空蒸發(fā)技術(shù)仍有許多優(yōu)點(diǎn)，如設備與工藝相對比較簡(jiǎn)單，即可沉積非常純凈的膜層，又可制備具有特定結構和性質(zhì)的膜層等等，仍然是當今非常重要的鍍膜技術(shù)。 近年來(lái)由于電子轟擊蒸發(fā)，高頻感應蒸發(fā)以及激光蒸發(fā)等技術(shù)在蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的廣泛應用，使這一技術(shù)更趨完善。 將膜材置于真空室內的蒸發(fā)源中，在高真空條件下，通過(guò)蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線(xiàn)性尺寸以后，蒸氣的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙，可直接到達被鍍的基片表面上，由于基片溫度較低，便凝結其上而成膜。 為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著(zhù)力，對基片進(jìn)行適當的加熱或離子清洗使其活化是必要的。 真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)輸運到沉積成膜，經(jīng)歷的物理過(guò)程如下： ?、俨捎酶鞣N能源方式轉換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量(0.1～0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子、分子或原子團); ?、陔x開(kāi)膜材表面，具有相當運動(dòng)速度的氣態(tài)粒子以基本上無(wú)碰撞的直線(xiàn)飛行輸運到基體表面; ?、鄣竭_基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長(cháng)成固相薄膜; ?、芙M成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。 相關(guān)閱讀 |
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