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手機的真空鍍膜技術(shù)應用分析
發(fā)布時(shí)間:2014-07-09 瀏覽:3915 次

  伴隨著(zhù)人們日常生活水平的不斷提高,手機的使用已經(jīng)十分普遍,雖然手機在帶給人們方便,但其輻射對人體的危害也越來(lái)越嚴重。

  研究表明,手機產(chǎn)生的電磁波強度是空間電磁波的4到6倍。

  少數劣質(zhì)手機產(chǎn)生的電磁波甚至達到空間電磁波百倍以上。

  手機輻射可引發(fā)神經(jīng)衰弱、內分泌失調,還能影響少年兒童的生長(cháng)發(fā)育,嚴重的甚至會(huì )引發(fā)腦瘤。

  怎么樣降低手機輻射對人體健康的影響,已成為擺在我們面前的一個(gè)急需解決的問(wèn)題。

  應用手機真空鍍膜技術(shù),就可以比較好地解決這個(gè)問(wèn)題。

  真空鍍膜是在原子水平上進(jìn)行材料生成的技術(shù),鍍層的晶料度在10納米左右,屬于納米材料的范疇。

  通過(guò)對手機殼內壁真空鍍電磁防護膜層,可以極大地防止因電磁波輻射而對手機使用者造成的危害。

  手機真空鍍膜技術(shù)的研究與應用,不僅推動(dòng)了手機制造業(yè)的發(fā)展,也推動(dòng)了相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

  有電磁輻射的產(chǎn)品都可以應用這項技術(shù)進(jìn)行電磁屏蔽,以對其使用性能進(jìn)行優(yōu)化,保護人類(lèi)健康,保護環(huán)境。

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