技術(shù)中心 Technology
| 濺射鍍膜設備的原理分析和講解 |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-07-01 瀏覽：5154 次 |
濺射鍍膜就是用高能粒子(通常是由電場(chǎng)加速的正離子)轟擊固體表面，固體表面的原子、分子與入射的高能粒子交換動(dòng)能后從固體表面飛濺出來(lái)的現象稱(chēng)為濺射。 濺射出來(lái)的原子(或原子團)具有—定的能量，它們可以重新沉積凝聚在固體基片表面上形成薄膜，稱(chēng)為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶材，擊出陰極靶材的原子或分子，飛向被鍍基片表面沉積成薄膜。 具有一定能量的離子入射到靶材表面時(shí)，入射離子與靶材中的原子和電子相互作用，可能發(fā)生如圖1 所示的一系列物理現象。 其一是引起靶材表面的粒子發(fā)射，包括濺射原子或分子、二次電子發(fā)射、正負離子發(fā)射、吸附雜質(zhì)解吸和分解、光子輻射等; 其二是在靶材表面產(chǎn)生一系列的物化效應，有表面加熱、表面清洗、表面刻蝕、表面物質(zhì)的化學(xué)反應或分解; 第三是一部分入射離子進(jìn)入到靶材的表面層里，成為注入離子，在表面層中產(chǎn)生包括級聯(lián)碰撞、晶格損傷及晶態(tài)與無(wú)定型態(tài)的相互轉化、亞穩態(tài)的形成和退火、由表面物質(zhì)傳輸而引起的表面形貌變化、組分及組織結構變化等現象。 被荷能粒子轟擊的靶材處于負電位，所以也稱(chēng)濺射為陰極濺射。將物體置于等離子體中，當其表面具有一定的負電位時(shí)，就會(huì )發(fā)生濺射現象，只需要調整其相對等離子體的電位，就可以獲得不同程度的濺射效應，從而實(shí)現濺射鍍膜，濺射清洗或濺射刻蝕以及輔助沉積過(guò)程。 濺射鍍膜、離子鍍和離子注入過(guò)程中都利用了離子與材料的這些作用，但側重點(diǎn)不同。 濺射鍍膜中注重靶材原子被濺射的速率;離子鍍著(zhù)重利用荷能離子轟擊基片表層和薄膜生長(cháng)面中的混合作用，以提高薄膜附著(zhù)力和膜層質(zhì)量;而離子注入則利用注入元素的摻雜、強化作用，以及輻照損傷引起的材料表面的組織結構與性能的變化。 以上就是愛(ài)加真空為各位講解的關(guān)于濺射鍍膜的工作原理，我公司專(zhuān)業(yè)提供各種濺射鍍膜設備的銷(xiāo)售、維修、維護、保養，歡迎來(lái)電咨詢(xún)洽談，服務(wù)熱線(xiàn)：13827202848 相關(guān)閱讀 |
  |
