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| 真空鍍膜技術(shù)逐步替代傳統水電鍍 |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-02-27 瀏覽：4362 次 |
傳統水電鍍由于污水處理成本高、能耗高，而且造成水資源的浪費，已經(jīng)被國家及各級地方政府所限制發(fā)展。在此背景下，目前迫切需要尋找一種替代傳統水電鍍的表面處理方法，使我們傳統水電鍍行業(yè)進(jìn)行技術(shù)升級。真空電鍍相對于傳統水電鍍有以下優(yōu)勢：
沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無(wú)法沉積的低電位金屬。節約金屬材料：由于真空涂層的附著(zhù)力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良。無(wú)環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面，沒(méi)有溶液污染，所以對環(huán)境沒(méi)有危害。
但目前真空鍍膜替代水電鍍上的技術(shù)難點(diǎn)是：進(jìn)一步提高真空鍍層的表面裝飾效果，如何在不進(jìn)行前處理的情況下，直接利用真空氣相沉積的辦法，不增加成本的前提下，達到水電鍍可以達到的亮度、光潔度。 目前真空鍍膜是已知的，唯一對環(huán)境沒(méi)有任何污染的表面處理方式。雖然真空鍍膜設備及工藝上，我國已經(jīng)取得了一定的成果，可以部分替代水電鍍，已經(jīng)有大量設備進(jìn)入市場(chǎng)，實(shí)現了工業(yè)化生產(chǎn)。但是在一些工藝上還要進(jìn)行進(jìn)一步的研發(fā)投入。
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