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| 真空鍍膜是鍍膜行業(yè)發(fā)展的必然趨勢 |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-02-24 瀏覽：4402 次 |
當今鍍膜行業(yè)使用的制作方式主要有兩種，一種是化學(xué)氣相沉積，也就是化學(xué)鍍膜（CVD），一種是物理氣相沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。
化學(xué)鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜的過(guò)程。在化學(xué)鍍膜的過(guò)程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍件表層雜質(zhì)多，鍍出來(lái)的效果不好。
化學(xué)鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無(wú)法經(jīng)受如此高溫，即使是硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會(huì )造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金刀具上蒸鍍Tin，基體擴散出來(lái)的碳會(huì )與溶液發(fā)生反應而形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。
真空科技研發(fā)的真空鍍膜機很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問(wèn)題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。
所有的鍍層材料都是在真空的環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問(wèn)題，不會(huì )產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)，鍍出來(lái)的膜層硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性好，性能更穩定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150～500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2～10倍。
由此可見(jiàn)，真空鍍膜是鍍膜行業(yè)發(fā)展的必然趨勢，其應用已經(jīng)引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，對環(huán)境無(wú)污染，符合現代綠色制造的發(fā)展方向，從二十世紀50年代開(kāi)始，化學(xué)鍍膜就逐步被真空鍍膜取代。 東莞愛(ài)加真空科技有限公司專(zhuān)業(yè)提供真空鍍膜設備保養，真空鍍膜設備升級改造，Polycold補集泵銷(xiāo)售、維修，同時(shí)還是美國野馬真空系統中國華南區總代理，如您的真空鍍膜設備有問(wèn)題，請聯(lián)系我們
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