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電鍍蒸發(fā)鍍膜設備介紹 |
發(fā)布時(shí)間:2014-02-20 瀏覽:4194 次 |
電鍍蒸發(fā)鍍膜設備介紹 用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜設備。蒸發(fā)鍍膜設備主要由真空室、排氣系統、蒸發(fā)系統和電氣設備四部分組成。 真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場(chǎng)所,直徑一般為400~700mm,高400~800mm,用不銹鋼制作,有水冷卻裝置。 真空鍍膜設備中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染,消除空間碰撞,提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性,真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動(dòng)裝置,如用行星運動(dòng)方式,這種運動(dòng)方式成膜均勻性好,臺階覆蓋性能良好,鍍件裝載量大,可以充分利用真空鍍膜室的有效空間,是目前經(jīng)常采用的運動(dòng)方式。 排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門(mén)組成。為了提高抽氣速率,可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此,排氣系統既要求在較短的時(shí)間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán),也要求確保在蒸氣鍍膜時(shí)迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。 蒸發(fā)系統包括蒸發(fā)源和加熱蒸發(fā)源的電氣設備。電氣設備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。
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