鍍膜設備技能需求
1、鍍膜設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的規劃方式，應契合GB/T6070的規則。
2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應設備真空丈量規管，別離丈量各部位的真空度。當發(fā)現電場(chǎng)對丈量形成攪擾時(shí)，應在丈量口處設備電場(chǎng)屏蔽設備。
3、若是設備運用的主泵為分散泵時(shí)，應在泵的進(jìn)氣口一側裝設有油蒸捕集阱
4、鍍膜設備的鍍膜室應設有觀(guān)察窗，應設有擋板設備。觀(guān)察窗應能觀(guān)察到堆積源的作業(yè)情況以及其他關(guān)鍵部位。
5、離子鍍堆積源的規劃應盡能夠進(jìn)步鍍膜過(guò)程中的離化率，進(jìn)步鍍膜資料的利用率，合理匹配堆積源的功率，合理安置堆積源在真空室體的方位。
6、合理安置加熱設備，通常加熱器規劃規劃應使被鍍工件溫升均勻共同。
7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的規劃應使工件膜層均勻
8、離子鍍膜設備通常應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有按捺非正常放電設備，保持作業(yè)安穩
9、真空室接不一樣電位的各部分間的絕緣電阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4.4.6
1、鍍膜設備環(huán)境溫度：10-30oC
2、鍍膜設備相對濕度：不大于75%
3、鍍膜設備冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25oC
4、鍍膜設備冷卻水質(zhì)：城市自來(lái)水或適當質(zhì)量的水
5、鍍膜設備供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需求而定)；電壓動(dòng)搖規模：342-399V或198-231V；
頻率動(dòng)搖規模：49-51Hz.
6、鍍膜設備所需的壓縮空氣，液氮，冷水、熱水等的壓力、溫度，消耗量等，均應在產(chǎn)品運用說(shuō)明書(shū)中寫(xiě)明。
7、鍍膜設備周?chē)h(huán)境整齊，空氣清洗，不該有導致電器及其他金屬件外表腐蝕或導致金屬間導電的塵土或氣體存在。
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