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真空鍍膜機有哪些主要特點(diǎn)與用途? |
發(fā)布時(shí)間:2014-02-08 瀏覽:5514 次 |
真空鍍膜機由真空鍍膜室、蒸發(fā)源、真空機組、卡具、蒸發(fā)電源、控制系統與輔助裝置等組成。 主要特點(diǎn): 1、配有石英晶體或光學(xué)膜厚控制儀,可以實(shí)現膜厚鍍膜自動(dòng)控制,實(shí)現高精度的鍍膜效果。 2、配RF離子轟擊裝置達到凈化基體表面的作用,使膜與基體表面附著(zhù)力更好,提高膜層的強度。 3、可同時(shí)蒸鍍兩種以上不同的蒸鍍材料,可制成復合膜。 4、操作簡(jiǎn)便、適應生產(chǎn)、科研的理想機。 5、具有過(guò)流、過(guò)壓保護及斷水、欠壓保護及電氣互鎖的功能。
真空鍍膜機可采用電阻加熱式蒸發(fā)源、電子束加熱式蒸發(fā)源和感應加熱式蒸發(fā)源??梢哉舭l(fā)金屬、金屬氧化物和非金屬氧化物,適用于電子工業(yè)、光學(xué)工業(yè)的導電膜、光學(xué)膜、濾光膜、裝飾膜等
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