1、真空鍍膜機中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T6070的規定。
2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現電場(chǎng)對測量造成干擾時(shí)，應在測量口處安裝電場(chǎng)屏蔽裝置。
3、如果設備使用的主泵為擴散泵時(shí)，應在泵的進(jìn)氣口一側裝設有油蒸捕集阱
4、設備的鍍膜室應設有觀(guān)察窗，應設有擋板裝置。觀(guān)察窗應能觀(guān)察到沉積源的工作情況以及其他關(guān)鍵部位。
5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過(guò)程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。
6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。
7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻
8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩定
9、真空室接不同電位的各部分間的絕緣電阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4.4.6
1、環(huán)境溫度：10-30oC
2、相對濕度：不大于75%
3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25oC
4、冷卻水質(zhì)：城市自來(lái)水或相當質(zhì)量的水
5、供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需要而定)；電壓波動(dòng)范圍：342-399V或198-231V；
頻率波動(dòng)范圍：49-51Hz.
6、設備所需的壓縮空氣，液氮，冷水、熱水等的壓力、溫度，消耗量等，均應在產(chǎn)品使用說(shuō)明書(shū)中寫(xiě)明。
7、設備周?chē)h(huán)境整潔，空氣清潔，不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。
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