技術(shù)中心 Technology
| 磁控濺射鍍膜為什么為鍍膜不均？ |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-07-10 瀏覽：4168 次 |
無(wú)論是什么真空鍍膜機鍍制的薄膜，它的均勻性都會(huì )受到很多因素影響，現在我們就磁控濺射真空鍍膜機來(lái)看看造成不均勻的有哪些因素。 磁控濺射真空鍍膜機的工作原理就是通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。 如此我們可以考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。 真空狀態(tài)就需要抽氣系統來(lái)控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動(dòng)是存在一定的影響的。 另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì )造成真空度不夠，但太長(cháng)又浪費資源，不過(guò)有真空計的存在，要控制好還是不成問(wèn)題的。 磁場(chǎng)是正交運作的，但你要把磁場(chǎng)強度做到百分之一百均勻是不可能的，一般磁場(chǎng)強的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會(huì )造成膜層厚度的不一致，不過(guò)在生產(chǎn)過(guò)程中，由于磁場(chǎng)的不均勻導致的膜層不均勻的情況卻不是常見(jiàn)的，為什么呢? 原來(lái)磁場(chǎng)強弱雖然不好控制，但同時(shí)工件也在同時(shí)運轉，而且是靶材原子多次沉積才會(huì )結束鍍膜工序，在一段時(shí)間內雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個(gè)時(shí)間內，磁場(chǎng)強的作用下在原來(lái)薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個(gè)膜層最終成膜后，均勻性還是比較不錯的。 氬氣的送氣均勻性也會(huì )對膜層的均勻性產(chǎn)生影響，原理其實(shí)和真空度差不多，由于氬氣的進(jìn)入，真空室內壓強會(huì )產(chǎn)生變化，均勻的壓強大小可以控制成膜厚度的均勻性。 雖然總是會(huì )有那么幾種因素造成膜層的不均勻，但如果正確的把真空鍍膜設備的操作做到位了，那么膜層的合格率是很高的。 相關(guān)閱讀 |
  |
